Генеральный директор ASML Кристоф Фуке заявил, что, несмотря на впечатляющие достижения SMIC и Huawei в полупроводниковой отрасли, китайские компании все еще отстают от таких гигантов как Intel, TSMC и Samsung на 10-15 лет.

По словам Фуке, даже с использованием передовых DUV-инструментов китайский производитель SMIC не сможет экономически эффективно конкурировать с технологическими процессами TSMC из-за отсутствия доступа к современным системам EUV-литографии.

ASML никогда не поставляла EUV-оборудование в Китай из-за Вассенаарских соглашений, хотя SMIC якобы разместила заказ на одну такую машину. Однако, компания продолжала поставлять передовые DUV-системы, включая Twinscan NXT:2000i, способные производить чипы по техпроцессам 5 и 7 нанометров.

Благодаря этому SMIC уже несколько лет выпускает чипы для Huawei по 7-нанометровому техпроцессу первого и второго поколений, что помогло китайским технологическим гигантам справиться с американскими санкциями.

Понимая, что доступ к EUV-инструментам закрыт, Huawei и ее партнеры начали собственные разработки в области экстремальной ультрафиолетовой литографии. По оценкам, создание собственной экосистемы займет минимум 10-15 лет, хотя ASML потратила более 20 лет на разработку коммерческих EUV-систем.

Основные опасения вызывает не столько возможность разработки китайскими компаниями собственных EUV-инструментов через 15 лет, сколько риск копирования ими существующих DUV-машин ASML в ближайшие годы.

США оказывают давление на ASML, требуя прекратить обслуживание и ремонт передовых DUV-систем в Китае, однако правительство Нидерландов пока не согласилось с этим требованием. ASML стремится сохранить контроль над своими машинами в Китае, чтобы предотвратить утечку конфиденциальной информации.

На данный момент китайские компании остаются одними из основных клиентов ASML, приобретая DUV-литографы на миллиарды долларов. Если китайские производители создадут собственные DUV-системы или скопируют разработки ASML, это может сильно ударить по бизнесу ASML.