Первый российский литограф, способный производить микрочипы на 350-нм техпроцессе (и выше), построен в России и проходит испытания в Зеленограде. Эта технология сейчас используется для некоторых автомобильных микросхем, в энергетике и коммуникациях.

Заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак заявил:

Первый отечественный литограф мы собрали, сделали. Он сейчас проходит уже испытания в составе технологической линейки в Зеленограде

Это достижение знаменует значительный шаг вперед для технологических возможностей России в производстве полупроводников. Однако технология 350 нм (350 микрон) значительно устарела при сравнении с современными стандартами. Intel производила свои процессоры Pentium MMX, Pentium Pro и начальные Pentium II на этом техпроцессе в 1995 и 1997 годах соответственно, AMD использовала этот техпроцесс для своего процессора K6 в 1997 году.

На данный момент неясно, как российский литограф будет использоваться в коммерческих целях, но можно предположить, что его основная цель — служить основой для разработки более сложных литографических машин.

Полупроводниковый сектор России развивается гораздо медленнее, чем заявляло правительство страны в 2023 году. Ранее заявленные краткосрочные цели включали наращивание производства микросхем с использованием технологии 90 нм к концу года, а долгосрочная цель — установление производства на уровне 28 нм к 2027 году и на уровне 14 нм к 2030 году. Учитывая нынешний прогресс, непонятно, как именно планируется достичь этих техпроцессов.